PlasmaPro 800 RIE 参考价:面议
PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RIE)工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的...PlasmaPro 80 RIE 参考价:面议
PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能确保工艺性能。直开式设计可实...PlasmaPro 100 RIE 参考价:面议
PlasmaPro 100 RIE模式可为多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺。询价 增加到询价列表 在询价列表中查看此产品